金相试样抛光的技术要求
　　PG-1型金相试样抛光操作的关键是要设法得到最大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织，即不会造成假组织。这两个要求是矛盾的。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用最细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。解决这个矛盾的的办法就是把抛光分为两个阶段进行。首先是粗抛，目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有最大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到最小。抛光时，试样磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上，PG-1型金相试样抛光的技术要求注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，不要超过500r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层,PG-1型金相试样抛光的技术要求粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。金相试样抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构，已逐步引起有关专家的重视。近年来，国内外在抛光机的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新机型、新一代的抛光设备，正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动抛光机,对于试样飞出和因压力太大而产生新磨痕也有很大改善。

PG-1型金相试样抛光机的技术要求:是需要在金相试样制备过程中，试样的抛光是一道主要工序，经过磨光的试样，在抛光机上抛光后，可获得光亮如镜的表面，PG-1抛光机是采集多方面使用人员的意见和要求设计而成的，它具有传动平稳、噪音小、操作、维修方便等优点。该机的抛光盘直径和传递功率均大于国内同类产品，能适合更多种材料的抛光要求。

主要参数：

   抛光机有焊接工作台、工作台面、抛光盘、抛光织物、抛光罩及开关等基本部件组成。工作台面上安装有2个抛光盘，可供两人同时操作，使用方便。两台的电动机多置于工作台面下部，通过固定片与台面连接。固定抛光盘用的锥套通过螺钉与电动机轴相连。抛光织物通过套圈紧固在抛光盘上。电动机的起停可分别由安装在面板上的开关控制，电动机启动后，便可用手对试样施加压力在转动的抛光盘上进行抛光。在抛光过程中加入的抛光液可通过固定在台面上的塑料盘中的水管排出。抛光罩及盖可防止灰尘及其他杂物在机器不使用时落在抛光织物上而影响使用效果。

本公司还供应上述产品的同类产品：

硬度计耗材（如钻石测头、HRB测头、硬度计钢球、金钢石洛氏压头、钢珠测头、钢珠、硬度标准块、硬度计灯泡、支持台、硬度计卤素灯泡、照明灯泡、美国GE卤素灯泡、投影仪用灯泡等.）

金相耗材（如镶埋粉，成型粉，树脂粉，热镶嵌料，镶嵌粉，透明镶嵌料,透明镶嵌粉,透明成型粉，透明镶埋粉）冷埋树脂，冷镶埋粉，冷镶嵌王，冷镶嵌料，水晶模，一次性水晶胶模，反复性水晶胶模，氧化铝粉(抛光粉，金相抛光粉，进口抛光粉，进口氧化铝粉）金相砂纸、耐水砂纸、研磨膏、金刚石研磨膏、金刚石喷雾抛光剂、金刚石喷雾研磨抛光剂、拋光布、砂轮切割片、金相切割片等）

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